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超真空除气系统

2023-05-23 22:30 已有人浏览

分类真空除气

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高真空除气系统能在几小时内完成器件的脱气，部分器件性能指标提高约50%以上，该设备可按需对接上下游工艺设备。...

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半导体器件的内表面吸附的水汽等大分子气体会对器件本身寿命和性能有很大的影响，我公司推出的高真空除气系统能在很大程度上去除半导体器件内表和浅表吸附气体，提高半导体器件的性能和寿命。相对传统的烘烤和置换能节省大量的人力物力。有数据表明，传统的烘箱烘烤加氮气置换耗时约5-7天，我公司生产的高真空除气系统能在几小时内完成器件的脱气，部分器件性能指标提高约50%以上。该设备可按需对接上下游工艺设备。

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